NIKLAD™

NiKlad 化学镍镀层以稳定性和光亮度闻名于业界。我们最新研发的 NiKlad ELV 系统符合《报废车辆指令》的要求。NiKlad 产品系列还包括低摩擦系数的 PTFE 复合材料、硼系统、黑色镀层以及用于铝加工的预镀液。

 

VAND-ALOY™

Vand-Aloy 产品系列包括汽车应用指定的耐腐蚀镀层

 

ELNIC®.

Elnic 沉积的磷含量介于微量至 12%（高）之间。后者被广泛用于石油行业，以充分利用其化学镍防腐蚀性。Elnic 系统也包括含硼的系统（用于电子设备应用）或铁氟龙（以降低摩擦系数）。

 

高磷化学镍镀层

产品 磷含量 描述
Elnic 101 10 - 11% 磷 所有应用通用。沉积获得 FDA 批准。
NiKlad ELV 811 10 - 12% 磷

NiKlad ELV 811 提供耐腐蚀性极佳的镀层、良好的沉积硬度和耐磨性。化学镀镀层含锡，旨在抵抗强氧化条件。它可以在无氨条件下操作。

NiKlad ELV 811 不含铅和镉添加剂，因此符合 ELV、WEEE 和 ROHS 法规要求。达到 GMW 3059、福特 WSS-M99P9999-A1、WSD-M1P65B1 & B2、克莱斯勒 CS9003、AMS 26074、AMS 2404、ASTM B-733 和 ISO 4527 的性能要求。
NiKlad ELV 812 8 - 10%磷

NiKlad 812 在非晶态、非磁性化学镍镀层中含锡，旨在抵抗强氧化条件。在高达 320ºC 的温度下，可抵抗一小时的腐蚀和结晶化。该抗压应力沉积还具备良好的延展性、可焊接性、钎焊合金浸润以及极高的磁性转变温度。

NiKlad ELV 812 不含铅和镉添加剂，因此符合 ELV、WEEE 和 ROHS 法规要求。它特别适用于保护铝基材，并达到与 NiKlad ELv 811 类似的性能要求。
NiKlad 1000  11 - 13% 磷 该抗压应力沉积具备最高的化学镍防腐保护水平和非磁性沉积特性。特别适用于航天、航空和内存磁盘行业，也可用于需要良好的保质期可焊性的应用。NiKlad 1000 可以在无氨条件下操作。
Vand-Aloy 4200 10 - 12% 磷 使用寿命较长的高速镀液。它最适合用于阳极保护的不锈钢和传统聚丙烯设备。Vand-Aloy 4200 化学镀工艺能够容忍很多杂质，适用于那些需要尽可能提高产量和质量的生产设施。该系统可以在无氨条件下操作。

中磷化学镍镀层

产品 磷含量 描述
NiKlad 767 5 - 6% 磷 我们最稳健、应用最广泛的系统。非常明亮、始终如一的高速镀液，适用于高负载或低负载下的普通应用。NiKlad 767 可以在无氨条件下操作。这种化学镀液提供耐腐蚀性中等的镀层，具备高硬度和耐磨性。
NiKlad 768 5 - 6% 磷 Niklad 767 的高产量、高负载版本。
NiKlad 787 6 - 9% 磷 NiKlad 787 是一种不含乙二胺四乙酸的超亮镀液。专为最大吞吐量和较高的镀液负载而设计。该镀层将高硬度、耐磨性与良好的化学镍耐腐蚀性相结合。NiKlad 787 可以在无氨条件下操作。
NiKlad 797 3.5 - 4.5% 磷 非常光亮、快速的镀液，适用于高产量应用。很高的镀态硬度。该系统在 70oC (160oF) 下开始镀层，非常适用于那些需要低温操作的专门应用。
NiKlad ELV 808 7 - 9% 磷 不含乙二胺四乙酸、铅和镉的化学镀工艺。NiKlad 808 符合 ELV、WEEE 和 ROHS 法规要求。耐腐蚀的光亮沉积提供极佳的耐磨性。NiKlad ELV 808 可以在无氨条件下操作。
NiKlad ELV 835 4 - 7% 磷 不含铅、镉或其他“故意添加的金属”，以符合 WEEE、RoHS、ELV 指令和 NSF 051 的要求。它是一种非常高速的化学镀工艺，将高硬度、耐磨性镀层与良好的化学镍耐腐蚀性相结合。
NiKlad ELV 849 7 - 9% 磷 NiKlad ELV 849 非常光亮，不含铅和镉，符合 ELV、WEEE 和 ROHS 指令。NiKlad 849 提供极佳的沉积光亮、硬度和耐磨性，并且能为化学镀镀层提供较高的耐腐蚀性。

低磷化学镍镀层

产品 磷含量 描述
NiKlad 724 1.5 - 3% 磷 在热处理前后都具备极佳硬度和耐磨性的半亮沉积。卓越的延展性。适用于电子设备应用，如焊接和钎焊。NiKlad 724 符合 AMS 26074、ASTM B-733 和 ISO 4227 规格。
NiKlad 797 3.5 - 4.5% 磷 非常光亮、快速的化学镀工艺，适用于高产量应用。具备很高镀态硬度的化学镍镀层。该系统在 70oC (160oF) 下开始镀层，非常适用于那些需要低温操作的专门应用。
NiKlad ELV 824 1 - 3% 磷 有机稳定的半亮工艺，不含铅和镉。该沉积非常坚硬，易于焊接，且提供极高的耐磨性。NiKlad ELV 824 符合 ELV、WEEE 和 ROHS 法规要求，并达到 AMS 26074、ASTM B-733 和 ISO 4227 规格要求。

镍 PTFE 复合材料化学镍镀层

产品 PTFE 含量 描述
NiKlad ICE Ultra 5 - 35% 将化学镍镀层的硬度和均匀性与 PTFE 的润滑性和防粘特性相结合。此化学镀工艺与 PTFE 微粒相结合的均匀复合材料可提供低摩擦特性和良好的脱模特性。PTFE 含量在 5 – 35% 之间，可根据应用要求进行修改。

黑镍化学镍镀层

产品 磷含量 描述
NiKlad Eclipse 1 - 3% 磷

NiKlad Eclipse 是一种氧化性溶液，与双重化学镀镀层配合使用时，若顶层为 NiKlad ELV 824，可以形成黑色沉积。

NiKlad Eclipse 工艺设计不含任何重金属稳定剂（如铅或镉），以符合 WEEE、RoHS 和 ELV 指令。

镍硼化学镍镀层

产品 硼含量 描述
NiKlad 752 0.2 - 0.5% 硼 硼系统主要用于所有类型的电子设备应用。该沉积可提供较高的导电性，具备较低的接触电阻，并展示出某些良好的“镀态”硬度和耐磨性。该沉积能够延长所获得的保质期可焊接性，因此也用于各种可焊接性应用中。此镀层能够在某些特定应用中替代黄金。
NiKlad Silk 3 - 6% (HBN) NiKlad Silk 是一种金属陶瓷复合镀层，综合了化学镍镀层的强度和耐用性与六方氮化硼 (HBN) 的润滑和防磨特性。

预镀化学镍镀层

产品 磷含量 描述
NiKlad ELV 831 预镀液 在电解或化学镀之前，用于锌酸盐铝的室温预镀液。使用 NiKlad ELV 831 预镀可产生极佳的附着力，能够延长后续电镀溶液的镀液使用寿命。它是一种有机稳定的无铅镀液。